超分辨在光電檢測中的應用.pdf

1、隨著半導體電路的集成度越來越高，導致了微電子的關鍵技術尺寸開始進入納米技術領域，因此對微電子測量技術也提出了新的挑戰(zhàn)。由于散射度量術的諸多優(yōu)點，使得這種測量技術被廣泛使用，作為一個散射度量術的重要應用，OCD（Optical Critical Dimension，光學關鍵尺寸）測量技術因其無損、方便、高效，并逐漸成為關鍵尺寸測量和分析領域中的主流技術，但是這種技術受到衍射極限的限制使其分辨率不能超過其半個工作波長。光學超分辨技術的出現可

2、以提高OCD技術的分辨率，從而提高其測量精度。本文的題目為超分辨在光電檢測中的應用，但是由于光電檢測的范圍太大，因此本文主要是將超分辨技術應用到微電子結構關鍵尺寸測試(OCD)技術中。
　　首先介紹了金屬透鏡的模型以及其實現衍射極限突破的理論推導，運用CST軟件對金屬透鏡進行建模，設置線光源的頻率，并在遠場設置天線接受線源的時域信息和頻域信息。再通過天線接收的信息反演出源光源的頻譜，并通過比較在沒有金屬透鏡的情況下反演出的源光源的

3、頻譜來得到突破衍射極限效果。通過改進微波頻段的金屬透鏡，在光波頻段其衍射極限的仿真結果為λ/34。然后對各向異性材料的電磁理論進行了推導，運用CST建模出由各向異性材料組成的同心圓柱形雙曲透鏡設備，利用線光源作為發(fā)射源，將其放置在圓柱形設備的內壁，通過仿真可以在外壁得到放大的圖像，仿真結果的其分辨率為λ/15。最后將金屬透鏡應用到OCD技術中，測得反射效率，再通過MATLAB編程來擬合出光柵的參數，與不使用金屬透鏡情況下實驗測得的光柵參