一種新型半導體制造先進過程控制：雙近似逆系統反饋控制.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、上海交通大學碩士學位論文一種新型半導體制造先進過程控制：雙近似逆系統反饋控制姓名：華盛申請學位級別：碩士專業(yè)：微電子學與固體電子學指導教師：程秀蘭200801156ABSTRACTAPCisveryimptanttoimprovethroughputyieldperfmanceofproductsinmodernsemiconductmanufacturing.ItisdifficultfuniversalAPCtoreduceerra

2、utomaticallyeffectively.AnovelantisystematicerrAPC:DualProximateInverseSystemFeedbackControl(DIFC)isestablishedinthispaper。Itcandecreasesystematicerrbyamendingpropertyvariationofequipments.InDIFCtwoloopsareusedtoinverseb

3、othtargetoutputrealoutput.Controllawwillanalyzethedifferencebetweenthemtoamendinput.SufficientconditionthatmakesDIFCasymptoticallystableconvergenttotargetoutputisgivenproved.DIFCissimulatedusingseveralvirtualsemiconductt

4、oolse.g.RTPionimplanterCMPtool.Differentcontrollaws(e.g.ProptionalProptionIntegralDifferentialPIDDynamicProptional)InverseSystem(e.g.RadialBasicFunction–RBFwkLinearApproximationModel)areusedinthesimulations.ItshowsthatDI

5、FCcandealwithsystematicalerrbothcontinuous(duringmanufacturing)step(aftermaintenance)DIFCdoreducetheseerrsbyseveraldersofmagnituderapidly.KEYWDS:AdvancedProcesscontrolSemiconductFabricationDualProximateInverseSystemFeedb

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